半导体高端封测废水怎么处理方法|半导体高端封测废水处理案例
半导体材料高测封配建涉重废水处理——MVR立即不断循环零排创业项目
项目流程背景图
光电器件材料顶级公测创业建设项目,规模性150万m³/天,是首届光电器件材料公测一起涉重污生活污水 零排创业建设项目。公测过程的镀镍、镀铜、引线结构洗会呈现含镍含铜污生活污水 ,园林耍求"无尾水外排",产水基本中水回用于产线。
水硬度的特点与薄弱环节
废液以含镍是以(氧浓度10–100毫克/升),伴微量分析铜、锌,pH起伏较大大(2–12),还要光刻胶无残留的一些可挥发物。首测厂基地紧,让治疗体系占地赔偿小;零排预示着浓水无法土石方工程很多,应该当地蒸发掉晶体开环。
整理工学院艺行车路线
纵向走"分质解决 → 预解决除杂 → 无机化学沉定除镍 → 滤出 → UF+多级RO → MVR强制性要求不断循环蒸发掉 → 蒸汽加热水回收利用":
含镍线先调pH到10–11,污泥脱水氢阳极脱色钠转化成Ni(OH)₂析出,加个加硫钠深层气体吸附残渣镍(加硫镍Ksp比氢阳极脱色镍更小,能能镍压到0.1毫克/升以上);
积淀水流经多有机溶剂过滤装置器+联防队员过滤装置器后进UF,再进五级RO,产水间接回产线洗涤;
RO浓水(含盐+残渣高价属)进MVR二次巡环系统减压蒸馏器,二次巡环系统能扛高含盐结渣,减压蒸馏器有带一直在线冲洗,很容易堵;
MVR蒸汽加热水反回造纸废水处理池子,蒸馏残液委外梵烧或看作危废处理处理,一整块作业区无液体状态外排。
至关重要产品的特点情况说明
MVR强制性再配置优于高级降膜蒸馏,再配置流体密度高、冷却面不可以结镍盐/碳酸盐垢,适用首测这般"蓄水量不算太大但水质量杂"的环境;一体式化撬装设定征占比经典蒸馏塘+多效蒸馏方案格式小60%及以上;恶臭侧生活设施生物学滤池,把调池和污水间的恶臭回收后分解成CO₂和水,以免 首测厂挨着商务办公场地的臭味客户投诉。
办理效果好与效用
冒水镍≤0.1毫克/升、铜≤0.1毫克/升,远低于《主轴电镀污染问题物排出规范》表三;大部分150万立方/天产水循环于首测产线洗涤,用于等量丰富水;垃圾(挥发残液+活性污泥)量比常用"石雕文化沉淀+排出"经济模式减约70%。对富士康侧,首测顶目绿色环保许可卡点挨打通;