某半导体器件营造企业因晶圆冲洗加工过程引起含氨废污水，需水量200吨/天。废污自来水中除氯离子外还内含氟化物和进样器巨资属，办理难度系数大。是时间污染物标准的标准要求氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 化工废水材料及源于 晶圆清理电镀废水（关键由来）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀环节废水处理工艺：含轻微铜、镍等巨资属，pH值振幅大 CMP碾磨废水处理：含硅颗粒物及氯离子 补救生产工艺程序 通过"检查是否滤渣+膜剥离 +折点氯化"組合方法： 预整理 ：污泥脱水CaCl2除氟，操作pH在7.5-8. 超滤膜系统化 ：除掉0.01μm上颗粒状物 反浸入浓缩提炼 ：将氯离子高浓至1000mg/L不低于 折点氯化 ：精确度掌控氯加药量，将挥发酚图片转换为惰性气体 铝离子调换 ：担保天价属符合标准 从而视觉效果 挥发酚维持＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属的含量高于测量限 水中水回用率达75% 淤泥出现量才能减少40%