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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆研制厂隶属于华中省市,具体生孩子8寸大半导体设备晶圆,单日种植废水减排量约800吨。致使生孩子具体步骤中选用过量氢佛酸完成晶圆蚀刻,导致种植废水下氟化物有机废气浓度更是高达200-300mg/L,远超国家减排规定(10mg/L下)。 污废水 成份及主要来源 废渣首要来自五湖四海这几个流程: 晶圆蚀刻流程 :含高含量氟化物(HF)、硝酸银及小量巨资属 生物机戒抛光剂(CMP)废渣 :含纳米技术级硅小粒、有机物络合剂 装置的清洗生产废水 :含异丙醇、氧化还原电位等无机物物 治理工艺技术流量 用"生物发展+混凝土发展+宽度过滤器"四级处置体统: 两级办理 :污泥脱水氯化钙和氢硫化钙,演变成氟化钙沉淀出的,氟化物我们要除率达85% 五级处置 :更改PAC(缩聚氯化铝)和PAM(高密度聚乙烯酰胺),洗去溶液态废弃物物 三阶段加工处理 :根据多物料筛选器和活性氧炭离心分离,出水出水氟化物质量浓度安稳在8mg/L以內 根本机械设备包涵:pH手动调低系统软件、斜管析出池、板框压泥机(污水脱水烘干)。 从而特效 投资项目操作两年监测站大数据彰显: 氟化物分別溶度:7.2mg/L(少于一个国家标淮) COD消除率:92% 污水水分含量率:≤65% 年收购 氟化钙副產品约150吨,构建信息化运用

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